PCB电路板化学沉铜质量控制方法

发布时间：[2013-12-7]     浏览次数


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PCB电路板沉铜质量控制方法
　　化学镀铜(Electroless Plating Copper)俗称沉铜


。印制电路板孔金属化技术是印制电路板制造技术的关键之一

。严格控制孔金属化质量是确保最终产品质量的前提
，而控制沉铜层的质量却是关键
。日常用的试验控制方法如下

：

1．化学沉铜速率的测定



：
　　使用化学沉铜镀液



，对沉铜速率有一定的技术要求
。速率太慢就有可能引起孔壁产生空洞或针孔
；而沉铜速率太快
，将产生镀层粗糙
。为此，科学的测定沉铜速率是控制沉铜质量的手段之一

。以先灵提供的化学镀薄铜为例，简介沉铜速率测定方法
：
(1)材料
：采用蚀铜后的环氧基材

，尺寸为100×100(mm)
。
(2)测定步骤：
A. 将试样在120-140℃烘1小时
，然后使用分析天平称重W1(g)；
B. 在350-370克／升铬酐和208-228毫升／升硫酸混合液（温度65℃）中腐蚀10分钟

，清水洗净
；
C．在除铬的废液中处理(温度30-40℃)3-5分钟，洗干净
；
D. 按工艺条件规定进行预浸、活化
、还原液中处理

；
E. 在沉铜液中(温度25℃)沉铜半小时
，清洗干净；
F. 试件在120-140℃烘1小时至恒重
，称重W2(g)



。
(3) 沉铜速率计算


：
速率＝(W2-W1)104／8．93×10×10×0．5×2(μm)
(4) 比较与判断：
把测定的结果与工艺资料提供的数据进行比较和判断。

2．蚀刻液蚀刻速率测定方法
　　通孔镀前，对铜箔进行微蚀处理，使微观粗化


，以增加与沉铜层的结合力
。为确保蚀刻液的稳定性和对铜箔蚀刻的均匀性

，需进行蚀刻速率的测定，以确保在工艺规定的范围内
。
(1)材料：0．3mm覆铜箔板

，除油



、刷板


，并切成100×100(mm)；
(2)测定程序：
A．试样在双氧水(80-100克／升)和硫酸(160-210克／升)
、温度30℃腐蚀2分钟

，清洗、去离子水清洗干净


；
B．在120-140℃烘1小时，恒重后称重W2(g)

，试样在腐蚀前也按此条件恒重称重W1(g)
。
(3)蚀刻速率计算
速率＝(W1-W2)104／2×8．933T(μm／min)
式中：s-试样面积(cm2)  T-蚀刻时间（min）
(4)判断

：1-2μm/min腐蚀速率为宜








。(1.5-5分钟蚀铜270-540mg)



。

3．玻璃布试验方法
　　在孔金属化过程中，活化



、沉铜是化学镀的关键工序
。尽管定性
、定量分析离子钯和还原液可以反映活化还原性能，但可靠性比不上玻璃布试验

。在玻璃布沉铜条件最苛刻

，最能显示活化、还原及沉铜液的性能

。现简介如下：
(1)材料：将玻璃布在10％氢氧化钠溶液里进行脱浆处理



。并剪成50×50(mm),四周末端除去一些玻璃丝
，使玻璃丝散开




。
(2)试验步骤

：
A．将试样按沉铜工艺程序进行处理
；
B. 置入沉铜液中
，10秒钟后玻璃布端头应沉铜完全，呈黑色或黑褐色
，2分钟后全部沉上


，3分钟后铜色加深；对沉厚铜
，10秒钟后玻璃布端头必须沉铜完全


，30-40秒后，全部沉上铜
。
C．判断：如达到以上沉铜效果
，说明活化、还原及沉铜性能好

，反则差。